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二次離子質(zhì)譜儀是一種高靈敏度的分析儀器,被廣泛應用于化學(xué)、生物學(xué)、材料科學(xué)等領(lǐng)域。然而,它在實(shí)際操作中會(huì )受到多種干擾因素的影響,如基體效應、儀器性能變化、背景噪聲等,這些因素會(huì )導致測量結果的不準確。因此,如何消除這些干擾效應,提高二次離子質(zhì)譜儀的測量精度,是當前研究的重要問(wèn)題。
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