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二次離子質(zhì)譜儀|產(chǎn)品概述

更新時(shí)間:2023-07-25瀏覽:400次

   二次離子質(zhì)譜儀是一種用于分析物質(zhì)成分和結構的微區分析儀器。它通過(guò)用高能離子束照射樣品,從樣品中提取二次離子,然后利用質(zhì)譜儀分析這些離子的質(zhì)量和數量,從而獲得樣品的成分和結構信息。以下是關(guān)于二次離子質(zhì)譜儀的原理與工作方式的解析。

 

 

  工作原理:
 
  利用高能離子束照射樣品,使樣品表面受到激發(fā),釋放出二次離子。這些二次離子主要包括樣品的原子或分子離子、分子離子碎片、原子或分子碎片等。質(zhì)譜儀根據這些離子的質(zhì)量進(jìn)行分析,從而得到樣品的成分和結構信息。
 
  工作方式:
 
  1.樣品制備:
 
  在進(jìn)行分析之前,需要將樣品制備成合適的形狀和尺寸。通常,樣品需要被制成薄片或薄膜,以便于高能離子束的照射。此外,樣品表面需要經(jīng)過(guò)處理,以去除表面的污染物和氧化物等。
 
  2.高能離子束照射:
 
  二次離子質(zhì)譜儀的核心部分是高能離子束照射系統。該系統包括一個(gè)離子源,用于產(chǎn)生高能離子束,以及一個(gè)離子光學(xué)系統,用于將離子束聚焦到樣品表面。常用的離子源包括氧離子源、銀離子源、氬離子源等。
 
  3.二次離子激發(fā):
 
  高能離子束照射樣品表面,使樣品表面受到激發(fā),釋放出二次離子。這些二次離子主要包括樣品的原子或分子離子、分子離子碎片、原子或分子碎片等。
 
  4.質(zhì)譜分析:
 
  釋放出的二次離子通過(guò)質(zhì)譜分析儀進(jìn)行分析。質(zhì)譜儀將離子流導入到一個(gè)電場(chǎng)或磁場(chǎng)中,根據離子的質(zhì)量進(jìn)行分析。通過(guò)測量離子的質(zhì)量,可以獲得樣品的成分和結構信息。
 
  5.結果解析:
 
  通過(guò)分析質(zhì)譜儀得到的離子的質(zhì)量和強度信息,可以推斷出樣品的成分和結構。例如,通過(guò)測量特定離子的強度,可以確定樣品中某種元素的存在量。此外,通過(guò)比較不同質(zhì)譜圖之間的差異,可以確定樣品中不同相的存在和它們的的位置和分布等。
 
  

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